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產(chǎn)品簡介
BX-G103激光橢偏儀 多入射角測量儀是針對高-端研發(fā)和質(zhì)量控制領(lǐng)域推出的極-致型多入射角激光橢偏儀。 BX-G103系列可在單入射角度或多入射角度下對樣品進行準確測量。可用于測量單層或多層納米薄膜樣品的膜層厚度、折射率n和消光系數(shù)k；也可用于同時測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k；亦可用于實時測量納米薄膜動態(tài)生長中膜層的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。多入射角度設(shè)計實現(xiàn)了納米薄膜的絕對厚度測量。
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| 品牌 | 其他品牌 | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,石油,地礦,綜合 |
關(guān)鍵詞：激光橢偏儀 多入射角測量儀
激光測量儀 橢偏儀光源 橢偏儀 橢偏儀設(shè)備 激光測高儀精度
產(chǎn)品用途：
BX-G103激光橢偏儀 多入射角測量儀是針對高-端研發(fā)和質(zhì)量控制領(lǐng)域推出的極-致型多入射角激光橢偏儀。 BX-G103系列可在單入射角度或多入射角度下對樣品進行準確測量。可用于測量單層或多層納米薄膜樣品的膜層厚度、折射率n和消光系數(shù)k；也可用于同時測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k；亦可用于實時測量納米薄膜動態(tài)生長中膜層的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。多入射角度設(shè)計實現(xiàn)了納米薄膜的絕對厚度測量。
儀器特點：
l /*的測量方法：Delta測量范圍0-360o，無測量死角問題（即使在0o或180o附近時也具有極-高的準確度），也可消除粗糙表面引起的消偏振效應(yīng)對結(jié)果的影響
l 原子層量級的極-高靈敏度和準確度：國、際、先、進的采樣方法、高穩(wěn)定的核心器件、高質(zhì)量的制造工藝實現(xiàn)并保證了極-高的準確度和穩(wěn)定性
l 百毫秒量級的快速測量：在保證極-高精度和準確度的同時，可在幾百毫秒內(nèi)快速完成一次測量，可滿足快速多點檢測和批量檢測需求
l 精準方便的樣品對準：視頻式自準直樣品方位精密對準系統(tǒng)，精度高、操作方便
l 簡單方便的儀器操作：一鍵操作即可完成復(fù)雜的樣品測量和分析；按照質(zhì)控要求進行數(shù)據(jù)多種導(dǎo)出；豐富的模型庫和材料庫方便用戶的高級操作；管理員/操作員不同的模式，保證儀器安全
技術(shù)參數(shù)：
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